[发明专利]一种高可靠性的N型横向绝缘栅双极型器件及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201310148959.5 申请日: 2013-04-25
公开(公告)号: CN103236437A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 刘斯扬;于朝辉;于冰;张春伟;孙伟锋;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L21/331;H01L21/762
代理公司: 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 代理人: 王剑
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种高可靠性的N型横向绝缘栅双极型器件及其制备工艺,包括:P型衬底,在P型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型阱,在N型阱的内部设有N型缓冲阱和P型体区,在N型缓冲阱内设有P型阳极区,在P型体区中设有N型阴极区和P型体接触区,在N型阱的表面设有场氧化层,在P型体区的表面设有多晶硅栅,在场氧化层、P型体接触区、N型阴极区、多晶硅栅和P型阳极区的表面设有钝化层,其特征在于,嵌入N型阱的场氧化层厚度占总厚度的60%~80%,使得场氧化层露出N型阱的部分与嵌入N型阱的部分的厚度比例为2:3至1:4,这样器件鸟嘴处的电场强度和碰撞电离率明显减弱,因而大幅度提升了器件的可靠性。
搜索关键词: 一种 可靠性 横向 绝缘 栅双极型 器件 及其 制备 工艺
【主权项】:
一种高可靠性的N型横向绝缘栅双极型器件,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有N型阱(3),在N型阱(3)的内部设有N型缓冲阱(4)和P型体区(13),在N型缓冲阱(4)内设有P型阳极区(5),在P型体区(13)中设有N型阴极区(12)和P型体接触区(11),在N型阱(3)的表面设有场氧化层(8)且场氧化层(8)的一端向P型阳极区(5)延伸并止于P型阳极区(5),另一端向P型体区(13)延伸并止于P型体区(13)前端,在P型体区(13)的表面设有多晶硅栅(9)且多晶硅栅(9)延伸至场氧化层(8)的部分上表面,在场氧化层(8)、P型体接触区(11)、N型阴极区(12)、多晶硅栅(9)和P型阳极区(5)的表面设有钝化层(7),在P型阳极区(5)表面连接有第一金属层(6),在P型体接触区(11)和N型阴极区(12)表面连接有第二金属层(10),其特征在于,所述场氧化层(8)嵌入N型阱(3)的深度为氧化层(8)总厚度的60%~80%,使得场氧化层(8)露出N型阱(3)的部分与嵌入N型阱(3)的部分的厚度比例为2:3至1:4。
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