[发明专利]钎焊x射线管靶的发射层在审
| 申请号： | 201310149402.3 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103258696A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | G.A.施泰因拉格;M.赫伯特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J35/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 姜甜;王忠忠 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 钎焊k射线管靶的发射层。一种用于产生x射线的靶，包括：包含至少一层靶材料的靶衬底(84)、包含至少一层轨迹材料的轨迹(86)、通过高能量电子撞击到设定的轨迹上而产生x射线的该轨迹、以及将靶衬底(84)附着到该轨迹的钎焊接头(88)。 | ||
| 搜索关键词： | 钎焊 射线 发射 | ||
【主权项】：
一种制造x射线靶组件的方法，包括：形成具有至少一层衬底材料的衬底；将轨迹定位在所述衬底附近，所述轨迹具有至少一层轨迹材料，被配置为通过高能量电子撞击到其上而产生x射线；以及在所述衬底和所述轨迹之间定位初始接头材料；以及提高所述衬底、所述轨迹和所述初始接头材料的温度至所述初始接头材料的熔化温度以下的某个温度，从而使所述初始接头材料扩散到所述衬底和所述轨迹的至少一种中以形成在此之间的最终接头，所述最终接头材料具有的熔化温度高于所述初始接头材料的熔化温度。
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