[发明专利]两喷一烧低温烧成喷涂工艺有效
申请号: | 201310151453.X | 申请日: | 2013-04-27 |
公开(公告)号: | CN103194754A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 李景学;师媛媛;雷庆田;潘雨露;徐其贤;赵辉;王志刚;陈婕 | 申请(专利权)人: | 河南金丹搪瓷有限公司 |
主分类号: | C23D11/00 | 分类号: | C23D11/00;C23D5/04;C03C8/22 |
代理公司: | 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙) 41117 | 代理人: | 杨妙琴 |
地址: | 477150 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明属于搪瓷产品生产制造技术领域,具体涉及一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺。本发明是在搪瓷制品生产中,在金属坯上先涂敷底釉,再涂敷面釉,最后再一次性烧成,从而节约一次烧结工序,可有效的降低企业生产成本,提高搪瓷制品的生产效率,节约流程,同时又能够满足国家节能减排的需要。本发明的底釉及面釉中无需添加粘土和各种电解质,烧成的瓷面光洁致密,气孔率低,杂点、异色明显减少,本发明较为完善地改变了传统工艺中排气方向从非搪瓷面逐渐逸出弥散,很难再形成直达搪瓷面的气体通道,避免了类似针孔、气泡等外观缺陷。 | ||
搜索关键词: | 两喷一烧 低温 烧成 喷涂 工艺 | ||
【主权项】:
一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺,其特征在于:包括以下工艺步骤:A、底釉制作按重量百分比称量二氧化硅:40~60%,三氧化二硼:8~15%,三氧化二铝:3~9%,氧化钙:2.0~5%,氧化钾:6~10%,氧化镍:1.0~5%,氧化锌5.0~15%,氧化钠:5.5~9%,氧化钛:3.0~4%,氧化锆:1.0~4%;氧化锂:0.7~4%,然后将上述原料加入1150~1300℃的炉内1~2小时,进行充分混合、熔制,生产出熔块,然后经球磨、烘干制成底釉粉末,底釉粉末经高分子有机物化进行包裹处理;B、面釉制作按重量百分比称量二氧化硅:35.2~39.5%,三氧化二硼:12~13.9%,三氧化二铝:4~7.5%,氧化钾:3.1~4%,氧化钠:13.8~16.3%,氧化钛:15.5~17.5%,氧化镁:1~2.5%,五氧化二磷:3.4~4.8%,氧化钴:0.001~0.003%,氟:1.6~4.0%,将上述原料加入1250~1300℃的炉内2~3小时,进行充分混合、熔制,生产出熔块,然后经球磨、烘干制成面釉粉末,面釉粉末经高分子有机硅烷化合物进行包裹处理;C、坯体处理将制造成型的工件坯体经过酸洗脱脂、清水漂洗、配洗除锈、清水漂洗、中和后,进行电泳披镍,使坯体表面钝化;D、喷涂将处理后的工件坯体进入自动喷涂生产线,自动旋转至底釉喷涂,完成一搪,然后旋转至面釉喷涂,完成二搪; E、烧结将喷涂后的工件送至温度为780~800度的炉窑内进行烧成,时间为5~7分钟。
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