[发明专利]两喷一烧低温烧成喷涂工艺有效

专利信息
申请号: 201310151453.X 申请日: 2013-04-27
公开(公告)号: CN103194754A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 李景学;师媛媛;雷庆田;潘雨露;徐其贤;赵辉;王志刚;陈婕 申请(专利权)人: 河南金丹搪瓷有限公司
主分类号: C23D11/00 分类号: C23D11/00;C23D5/04;C03C8/22
代理公司: 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙) 41117 代理人: 杨妙琴
地址: 477150 河南*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于搪瓷产品生产制造技术领域,具体涉及一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺。本发明是在搪瓷制品生产中,在金属坯上先涂敷底釉,再涂敷面釉,最后再一次性烧成,从而节约一次烧结工序,可有效的降低企业生产成本,提高搪瓷制品的生产效率,节约流程,同时又能够满足国家节能减排的需要。本发明的底釉及面釉中无需添加粘土和各种电解质,烧成的瓷面光洁致密,气孔率低,杂点、异色明显减少,本发明较为完善地改变了传统工艺中排气方向从非搪瓷面逐渐逸出弥散,很难再形成直达搪瓷面的气体通道,避免了类似针孔、气泡等外观缺陷。
搜索关键词: 两喷一烧 低温 烧成 喷涂 工艺
【主权项】:
一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺,其特征在于:包括以下工艺步骤:A、底釉制作按重量百分比称量二氧化硅:40~60%,三氧化二硼:8~15%,三氧化二铝:3~9%,氧化钙:2.0~5%,氧化钾:6~10%,氧化镍:1.0~5%,氧化锌5.0~15%,氧化钠:5.5~9%,氧化钛:3.0~4%,氧化锆:1.0~4%;氧化锂:0.7~4%,然后将上述原料加入1150~1300℃的炉内1~2小时,进行充分混合、熔制,生产出熔块,然后经球磨、烘干制成底釉粉末,底釉粉末经高分子有机物化进行包裹处理;B、面釉制作按重量百分比称量二氧化硅:35.2~39.5%,三氧化二硼:12~13.9%,三氧化二铝:4~7.5%,氧化钾:3.1~4%,氧化钠:13.8~16.3%,氧化钛:15.5~17.5%,氧化镁:1~2.5%,五氧化二磷:3.4~4.8%,氧化钴:0.001~0.003%,氟:1.6~4.0%,将上述原料加入1250~1300℃的炉内2~3小时,进行充分混合、熔制,生产出熔块,然后经球磨、烘干制成面釉粉末,面釉粉末经高分子有机硅烷化合物进行包裹处理;C、坯体处理将制造成型的工件坯体经过酸洗脱脂、清水漂洗、配洗除锈、清水漂洗、中和后,进行电泳披镍,使坯体表面钝化;D、喷涂将处理后的工件坯体进入自动喷涂生产线,自动旋转至底釉喷涂,完成一搪,然后旋转至面釉喷涂,完成二搪; E、烧结将喷涂后的工件送至温度为780~800度的炉窑内进行烧成,时间为5~7分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南金丹搪瓷有限公司,未经河南金丹搪瓷有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310151453.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top