[发明专利]修整盘清洗用刷、清洗装置以及清洗方法

摘要

一种修整盘清洗用刷、清洗装置以及清洗方法，能够在清洗CMP装置的修整盘时，有效地将从修整盘分离的尘埃排出到清洗系统的外部并使得尘埃不会再次附着。其构成为：在清洗用刷（3）的上表面突出设置有多根刷子（31a），清洗用刷（3）的内部设有供喷出清洗流体的喷嘴（24）插入的上下贯通的通孔（31b、32a），在通孔（31b、32a）的下端所面对的下表面设有凹槽（32b），在清洗修整盘时所产生的附着在刷子（31a）上的尘埃与清洗流体一起通过喷嘴（24）的周围与通孔（31b、32a）的内表面之间的间隙从凹槽（32b）排出到外部。

主权项

一种修整盘清洗用刷，所述清洗用刷固定于清洗装置主体的腕部而构成修整盘清洗装置，其中在上述清洗装置主体的腕部的上表面突出设置有喷出清洗流体的喷嘴，所述清洗用刷的特征在于，所述修整盘清洗用刷由如下部件构成：刷子主体部，在该刷子主体部的上表面突出设置有多根刷子，在该刷子主体部的内部具有供所述喷嘴插入的上下贯通的通孔；以及台座部，在该台座部的内部具有供所述喷嘴插入的上下贯通的通孔且在该通孔的下端所面对的下表面上形成有凹槽，从所述喷嘴喷出清洗流体来清洗修整盘时产生的附着于刷子的尘埃与清洗流体一起通过所述喷嘴的周围与通孔内表面之间的间隙，从所述凹槽排出到外部。