[发明专利]低发散角单纵模边发射光子晶体激光器有效

专利信息
申请号: 201310157583.4 申请日: 2013-05-02
公开(公告)号: CN103259188A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 渠红伟;张冶金;张建心;刘磊;马绍栋;石岩;郑婉华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/065 分类号: H01S5/065;H01S5/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种低发散角单纵模光子晶体边发射激光器,包括:在衬底上依次生长的N型光子晶体波导、N型下波导层、有源区、P型上波导层、P型上限制层,该P型上限制层的纵向剖面为一脊型结构,其上部的一侧为整体结构,另一侧为人工微结构,该人工微结构中包括多个狭槽,一P型欧姆接触层制作在P型上限制层脊型结构上部的上面,一绝缘层制作在P型上限制层脊型结构下部的上面和脊形结构上部的侧面,一P型电极制作在P型上限制层脊形结构的一侧、绝缘层的上面,该P型电极同时还制作在P型欧姆接触层的上面,一N型电极制作在衬底的背面。本发明可以降低制作成本;可以对激光器光场进行调控,降低了垂直发散角,改善了单纵模激光器光束质量,降低整形难度,提高光纤耦合的效率。
搜索关键词: 发散 角单纵模边 发射 光子 晶体 激光器
【主权项】:
一种低发散角单纵模光子晶体边发射激光器,包括: 一衬底; 一N型电极,其制作在衬底的背面; 一N型光子晶体波导,其制作在衬底的上面,用于形成电流注入通道和纵向光场扩展; 一N型下波导层,其制作在N型光子晶体波导的上面; 一有源区,其制作在N型下波导层的上面,提供光增益; 一P型上波导层,其制作在有源区的上面,用于形成电流注入通道和纵向光场限制; 一P型上限制层,其制作在P型上波导的上面,该P型上限制层的纵向剖面为一脊型结构,脊形结构上部的一侧为整体结构,另一侧为人工微结构,该人工微结构中包括多个狭槽,用于形成电流注入通道和纵向侧向光场限制; 一P型欧姆接触层,其制作在P型上限制层脊型结构上部的上面,用于形成欧姆接触; 一绝缘层,其制作在P型上限制层脊型结构下部的上面和脊形结构上部的侧面; 一P型电极,制作在P型上限制层脊形结构的一侧、绝缘层的上面,该P型电极同时还制作在P型欧姆接触层的上面; 其中该脊型结构的整体结构部分为脊型波导增益区,另一侧的人工微结构部分为光子晶体选模区。
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