[发明专利]多层印制板铟瓦铜夹层图形制作方法无效
申请号: | 201310159419.7 | 申请日: | 2013-04-28 |
公开(公告)号: | CN103237423A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 吴小龙;吴梅珠;徐杰栋;方庆玲;李召洋;刘秋华;胡广群;梁少文 | 申请(专利权)人: | 无锡江南计算技术研究所 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K3/06 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 龚燮英 |
地址: | 214083 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种多层印制板铟瓦铜夹层图形制作方法,包括:第一步骤:制作内层图形,以获得多层印制板的各内层图形单片;第二步骤:对内层图形单片和铟瓦铜先进行棕化处理,并对棕化处理后的内层图形单片和铟瓦铜进行烘烤以去除水汽;第三步骤:以铟瓦铜作为表层,用半固化片粘接,按设计的叠层结构同内层单片压合,获得芯板;第四步骤:采用化学蚀刻方法制作处于芯板表层的铟瓦铜的图形;第五步骤:按设计的叠层结构,利用半固化片作为粘接层,将芯板与芯板以外的其他层图形单片或外层铜箔进行二次压合,形成印制板半成品。 | ||
搜索关键词: | 多层 印制板 铟瓦铜 夹层 图形 制作方法 | ||
【主权项】:
一种多层印制板铟瓦铜夹层图形制作方法,其特征在于包括:第一步骤:制作内层图形,以获得多层印制板的各内层图形单片;第二步骤:对内层图形单片和铟瓦铜先进行棕化处理,并对棕化处理后的内层图形单片和铟瓦铜进行烘烤以去除水汽;第三步骤:以铟瓦铜作为表层,利用半固化片作为粘接层,按设计的叠层结构与内层图形单片压合,从而获得芯板;第四步骤:采用化学蚀刻方法制作处于芯板表层的铟瓦铜的图形;第五步骤:按设计叠层结构,利用半固化片作为粘接层,将芯板与芯板以外的其他层图形单片或外层铜箔进行二次压合,形成印制板半成品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡江南计算技术研究所,未经无锡江南计算技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310159419.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。