[发明专利]同时具有表面钝化的铝蚀刻后残留物移除有效
| 申请号： | 201310163040.3 | 申请日： | 2013-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN103305355B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 魏嘉莹 | 申请（专利权）人： | EKC技术公司 |
| 主分类号： | C11D7/50 | 分类号： | C11D7/50;C11D7/60;C11D7/32;B08B3/08;C23C22/56 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 王颖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种Al蚀刻后残留物移除组合物，其混合有化学式为R‑COOH的链烷酸，其中R是分子式为CnH2n+1的直链或支链烷基，其中n是4至19，由此移除了所述蚀刻后残留物且同时钝化了暴露的Al表面。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 具有 表面 钝化 蚀刻 残留物 | ||
【主权项】：
1.一种半导体清洁组合物，其包括：(a)50wt％至90wt％的一种或多种水混溶性有机溶剂，所述水混溶性有机溶剂选自由以下物质构成的组：四氢糠醇、乙二醇醚、二甘醇醚、脂肪族醇、N‑甲基‑2‑吡咯烷酮、环丁砜和二甲亚砜；(b)0.1wt％至1.0wt％的一种或多种氟化物，所述氟化物选自由以下物质构成的组：氟化铵、氟化氢铵、和四烷基氟化铵；(c)1wt％至5wt％的一种或多种鳌合剂，所述鳌合剂选自以下物质：有机酸、和胺；以及(d)50ppm至20000ppm的化学式为R‑COOH的链烷酸，其中R是分子式为CnH2n+1的直链或支链烷基，n是4至19。
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