[发明专利]一种脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法在审
| 申请号： | 201310163519.7 | 申请日： | 2013-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN104140348A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 孙宏斌;陈冬寅;徐畅;邓洁 | 申请（专利权）人： | 中国药科大学 |
| 主分类号： | C07B41/08 | 分类号： | C07B41/08;C07B41/02;C07C51/09;C07C63/06;C07C65/21;C07C63/70;C07C57/58;C07C201/12;C07C205/57;C07C69/80;C07C67/317;C07J63/00;C07J1/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 211198 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法。所述方法为：以羧基或羟基被对甲氧基苄基类保护基保护的化合物为反应底物，以质子交换过的蒙托土(H-mont)为脱保护剂，二氯甲烷为反应溶剂，0～40℃温度下进行反应，脱除羧基或羟基的对甲氧基苄基类保护基，得到羧基或羟基化合物。本发明所述方法绿色环保、操作简单、反应温和、选择性好、收率高等优点，适合工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 脱除 羧基 羟基 甲氧基 苄基 保护 方法 | ||
【主权项】：
一种脱除羧基和羟基的对甲氧基苄基类保护基的方法，其特征在于所述的方法为：以羧基或羟基被对甲氧基苄基类保护基保护的化合物为反应底物，以固体酸为脱保护剂，有机溶剂为反应溶剂，在‑10℃至120℃温度下进行反应，脱除羧基或羟基的对甲氧基苄基类保护基，得到羧基或羟基化合物。
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