[发明专利]一种电波折射修正方法、装置及系统有效

专利信息
申请号: 201310167204.X 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN103217177A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 康士峰;刘琨;赵振维;林乐科;李建儒;陈祥明;朱庆林;王红光;孙方;丁宗华 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十二研究所
主分类号: G01D3/028 分类号: G01D3/028;G01W1/02;G01T1/29
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 罗丹
地址: 266107 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种电波折射修正方法、装置及系统,该方法包括基于历史气象探空数据和地面温湿压数据,实时获得对流层折射率剖面;基于地基单站GNSS接收机采集到的GNSS信号,实时获取电离层垂直总电子含量实测值,在电离层垂直总电子含量实测值的基础上,利用遗传非线性优化算法实时反演出电离层电子密度剖面;根据对流层折射率剖面和电离层电子密度剖面,利用射线描迹方法计算电波环境折射误差;并对目标探测数据进行修正。本发明可以提升工程中电波环境感知能力,精确给出电波环境折射误差,有效地提高目标的探测精度。
搜索关键词: 一种 电波 折射 修正 方法 装置 系统
【主权项】:
一种电波折射修正方法,其特征在于,包括:步骤一,基于历史气象探空数据和地面温湿压数据,实时获得对流层折射率剖面;步骤二,基于地基单站全球导航卫星系统GNSS接收机采集到的GNSS信号,实时获取电离层垂直总电子含量实测值,在电离层垂直总电子含量实测值的基础上,利用遗传非线性优化算法实时反演出电离层电子密度剖面;步骤三,根据对流层折射率剖面和电离层电子密度剖面,利用射线描迹方法实时计算电波环境折射误差;步骤四,根据电波环境折射误差,对目标探测数据进行修正。
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