[发明专利]一种光子晶体非晶硅薄膜太阳电池有效
申请号: | 201310169458.5 | 申请日: | 2013-05-09 |
公开(公告)号: | CN103227226B | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 侯国付;陈培专;张建军;倪牮;张晓丹;赵颖 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/052 | 分类号: | H01L31/052 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光子晶体非晶硅薄膜太阳电池,由衬底、一维光子晶体背反射器、背电极、n型氢化非晶硅、本征氢化非晶硅、p型氢化非晶硅和前电极组成叠层结构,其中一维光子晶体背反射器是由低折射率介质和高折射率介质周期性交叠构成,周期数大于等于两个周期,背电极和前电极为高透过、高电导、低吸收的透明导电膜并作为电流引出电极。本发明的优点是:该光子晶体非晶硅薄膜太阳电池,克服了采用Ag背电极成本高,采用其他金属背电极反射率不够的问题,保证高效率的同时降低原材料成本。同时还克服了采用金属背电极引入的一系列问题,有助于提高电池开路电压,提升电池稳定性。因与电池工艺兼容,还有助于降低设备投资和厂房面积,提升产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 光子 晶体 非晶硅 薄膜 太阳电池 | ||
【主权项】:
一种光子晶体非晶硅薄膜太阳电池,其特征在于:由衬底、一维光子晶体背反射器、背电极、n型氢化非晶硅、本征氢化非晶硅、p型氢化非晶硅和前电极组成叠层结构,其中一维光子晶体背反射器是由低折射率介质和高折射率介质周期性交叠构成,周期数大于等于两个整数周期,背电极和前电极为高透过、高电导、低吸收的透明导电膜并作为电流引出电极;所述一维光子晶体背反射器中的低折射率介质为氧化硅膜,氧化硅膜采用RF‑PECVD制备,气源采用硅烷、氢气和二氧化碳,折射率为1.4‑2.0,厚度为50‑500nm;高折射率介质为与硅基薄膜工艺兼容的氢化非晶硅膜,氢化非晶硅膜同样采用RF‑PECVD制备,气源采用硅烷和氢气,折射率为3.0‑5.0,厚度为10‑100nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南开大学,未经南开大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310169458.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的