[发明专利]柔性掩膜板及其制备方法无效
| 申请号： | 201310169905.7 | 申请日： | 2013-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN103268056A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 叶向东;蔡安江;阮小光 | 申请（专利权）人： | 西安建筑科技大学 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00;G03F7/09 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 蔡和平 |
| 地址： | 710055*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种柔性掩膜板，包括柔性基板，柔性基板上方依次设有粘结层、金属图形结构层和柔性封装层；柔性基板采用透明性柔性材料制成；柔性基板的材质为聚碳酸酯或聚二甲基硅氧烷；粘结层的材质为环氧树脂胶粘剂；金属图形结构层的材质为铝或铜；柔性封装层的材质为聚二甲基硅氧烷。本发明提供一种柔性掩膜板及其制备方法，该柔性掩膜板能够对曲面基底进行光刻加工，而且其可以自然吸附到基底上实现紧密接触，不需要进行传统的抽真空处理，这使得本发明的柔性掩膜板适宜于进行大面积基底的光刻加工。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种柔性掩膜板，其特征在于，包括柔性基板（1），柔性基板（1）上方依次设有粘结层（2）、金属图形结构层（3）和柔性封装层（4）。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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