[发明专利]石英坩锅脱模阻隔剂及其使用方法无效
申请号: | 201310175080.X | 申请日: | 2013-05-13 |
公开(公告)号: | CN104152981A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 魏汝超 | 申请(专利权)人: | 超能高新材料股份有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/06 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 中国台湾桃园县龙潭*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种石英坩锅脱模阻隔剂及其使用方法,该石英坩锅脱模阻隔剂包含99wt%以上的氮化硅(Si3N4),以及小于1wt%的杂质,又在氮化硅(Si3N4)中,β相的氮化硅所占的比例为60%~99%,该方法包含混合步骤、喷涂步骤以及成膜步骤,将多个脱模阻隔剂的粉末与水充分混合成悬浮溶液、接着喷涂在石英坩锅的表面,最后行烘烤,将石英坩锅的表面的水分去除,使所述脱模阻隔剂的粉末在该石英坩锅的表面形成一脱模层,藉由采用高含量的β相的氮化硅(Si3N4),能在高温时具有稳定的结构,而使得脱模层不易裂解,同时也避免了石英坩锅中的杂质扩散至多晶硅中,达到良好的脱模及阻隔效果。 | ||
搜索关键词: | 石英 脱模 阻隔 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种石英坩锅脱模阻隔剂,主要用于成长多晶硅,其特征在于,包含:氮化硅(Si3N4)占99wt%以上,且β相的氮化硅(Si3N4)占氮化硅(Si3N4)总含量的比例为60%~99%;以及杂质,小于1wt%。
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