[发明专利]APCVD炉管复机保养方法

摘要

本发明公开了一种APCVD炉管复机保养方法，包括如下步骤步骤一，TLC净化，利用O2结合DCE清除炉管内及位于炉管内的晶舟上的金属离子；步骤二，湿氧净化，用于去除炉管内及位于炉管内的晶舟上的DCE残留；步骤三，O2烘烤，用于去除炉管内及位于炉管内的晶舟上的水汽和有机物。通过在TLC净化步骤后面增设湿氧净化步骤，可以有效去除TLC步骤中DCE残留，尤其是DCE中的氯离子残留；通过O2烘烤步骤，可以去除炉管内的水汽和有机物，从而既可以去除金属离子和有机物，又可以有效防止DCE残留和水汽对后续薄膜厚度的影响提高了产品的良率，并且本发明提供的方法比现有的保养方法效率高、成本低。

主权项

一种APCVD炉管复机保养方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，TLC净化，利用N2、O2结合DCE清除炉管内及位于炉管内的晶舟上的金属离子；步骤二，湿氧净化，用于去除炉管内及位于炉管内的晶舟上的DCE残留，其中，所述湿氧净化是指向炉管内通入H2和O2，利用H2和O2的生成物来去除DCE残留，湿氧净化时，反应温度控制在1000摄氏度‑1150摄氏度；步骤三，O2烘烤，用于去除炉管内及位于炉管内的晶舟上的水汽和有机物，其中，O2的气体流速是10L/min～20L/min。