[发明专利]具非对准型超级结结构的半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310177871.6 申请日: 2013-05-14
公开(公告)号: CN103311274A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 杨坤进;康剑;汪德文;王民涛 申请(专利权)人: 深圳深爱半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336;H01L29/739;H01L21/331
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种具非对准型超级结结构的半导体器件,包括:衬底;外延层,设于所述衬底上,为第一掺杂类型;柱区,设于所述外延层内,为第二掺杂类型;掺杂区,设于所述柱区上方,为第二掺杂类型;金属电极,设于掺杂区上;所述柱区和掺杂区之间被所述外延层所隔断而无直接接触,所述柱区和掺杂区相距最近处的垂直距离为2至10微米。本发明还涉及一种具非对准型超级结结构的半导体器件的制造方法。本发明非对准型超级结结构与正面结构分离,生产的工艺难度降低。另外,非对准型超级结结构与正面结构分离,与产品电流大小(产品型号)不相关,使得同一系列产品均可采用相同的超级结结构,适用于系列化,从而降低超级结结构量产成本。
搜索关键词: 对准 超级 结构 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具非对准型超级结结构的半导体器件,包括:衬底;外延层,设于所述衬底上,为第一掺杂类型;柱区,设于所述外延层内,为第二掺杂类型;掺杂区,设于所述柱区上方,为第二掺杂类型;金属电极,设于掺杂区上;其特征在于,所述柱区和掺杂区之间被所述外延层所隔断而无直接接触,所述柱区和掺杂区相距最近处的垂直距离为2至10微米。
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