[发明专利]化学机械抛光设备无效

专利信息
申请号: 201310180057.X 申请日: 2013-05-15
公开(公告)号: CN103252705A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 路新春;何永勇;沈攀;许振杰;王同庆;裴召辉;徐海滨;张莉瑶;郭振宇;雒建斌 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B37/34
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成;黄德海
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括:用于存放晶圆的晶盒装载装置;用于放置晶圆的晶圆过渡装置;第一机械手;化学机械抛光机;晶圆清洗装置,晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件;晶圆刷洗装置,晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件;晶圆干燥装置,晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件;和第二机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
搜索关键词: 化学 机械抛光 设备
【主权项】:
一种化学机械抛光设备,其特征在于,包括:用于存放晶圆的晶盒装载装置;用于放置晶圆的晶圆过渡装置;用于将晶圆从所述晶盒装载装置搬运到所述晶圆过渡装置的第一机械手,所述第一机械手设在所述晶盒装载装置与所述晶圆过渡装置之间;化学机械抛光机;晶圆清洗装置,所述晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在所述第一容纳腔内竖直地支撑晶圆的第一晶圆支撑组件和设在所述第一本体上的晶圆清洗组件,所述第一容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第一容纳腔的第一侧壁的第一槽口;晶圆刷洗装置,所述晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在所述第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和竖直地支撑晶圆的第二晶圆支撑组件,所述第二容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第二容纳腔的第一侧壁的第二槽口;晶圆干燥装置,所述晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在所述第三容纳腔内的晶圆干燥组件和竖直地支撑晶圆的第三晶圆支撑组件,所述第三容纳腔的第一侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第一侧壁的第三槽口,所述第三容纳腔的第二侧壁上设有沿左右方向贯通所述第三容纳腔的第二侧壁的第四槽口;和用于在所述晶圆过渡装置、所述化学机械抛光机、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间搬运晶圆的第二机械手,所述第二机械手设在所述晶圆过渡装置、所述化学机械抛光机、所述晶圆清洗装置、所述晶圆刷洗装置和所述晶圆干燥装置之间。
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