[发明专利]一种二氧化硅蚀刻液及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310180562.4 申请日: 2013-05-16
公开(公告)号: CN104164237A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 殷福华;朱龙;邵勇 申请(专利权)人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
主分类号: C09K13/08 分类号: C09K13/08
代理公司: 代理人:
地址: 214000 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种二氧化硅蚀刻液及其制备方法,所述二氧化硅蚀刻液包括以下重量百分比的组合物:氟化铵溶液20%~30%,氢氟酸3%~6%,余量为超纯水。本发明提供的二氧化硅蚀刻液及其制备方法,称取一定量的氟化铵溶液,在搅拌下加入氢氟酸,充分搅拌15分钟;然后加超纯水,搅拌45分钟。接着将制得的混合物经0.5μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.5μm的有害粒子,即得二氧化硅蚀刻液。本发明蚀刻液经过精密混配,去除产品中的杂质,蚀刻精度高,速度快。
搜索关键词: 一种 二氧化硅 蚀刻 及其 制备 方法
【主权项】:
一种二氧化硅蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的组合物:氟化铵溶液20%~30%,氢氟酸3%~6%,余量为超纯水。
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