[发明专利]摩擦处理方法及光学薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310181951.9 申请日: 2013-05-16
公开(公告)号: CN103424934B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 村上大 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 戚宏梅,杨谦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种能够实现异物附着故障的减少和取向不良故障的减少的摩擦处理方法及光学薄膜的制造方法。从薄片(W)的与摩擦辊(72)接触的面的背面侧,将从气动压力机装置(50)的喷嘴(50A)喷出的空气的压力遍及所述支撑体的整个宽度地向薄片(W)施加,由此,将薄片(W)向摩擦辊(72)按压的工序中,使用设置有在薄片(W)宽度方向上中央部的开口率比两端部的开口率高的压损板(52)的气动压力机装置(50),来进行摩擦处理。
搜索关键词: 摩擦 处理 方法 光学薄膜 制造
【主权项】:
一种摩擦处理方法,具有:使带状挠性支撑体连续行走的工序;将所述支撑体向表面设有摩擦布并进行旋转驱动的摩擦辊进行卷挂的工序;和将从气动压力机装置的喷嘴喷出的空气的压力,遍及所述支撑体的整个宽度地从该支撑体的与所述摩擦辊接触的面的背面侧向所述支撑体施加,由此,将所述支撑体向所述摩擦辊按压的工序,其特征在于,所述气动压力机装置具有在所述支撑体宽度方向上两端部的开口率比中央部的开口率高的压损板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310181951.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top