[发明专利]摩擦处理方法及光学薄膜的制造方法有效
申请号: | 201310181951.9 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN103424934B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 村上大 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1335 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 戚宏梅,杨谦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种能够实现异物附着故障的减少和取向不良故障的减少的摩擦处理方法及光学薄膜的制造方法。从薄片(W)的与摩擦辊(72)接触的面的背面侧,将从气动压力机装置(50)的喷嘴(50A)喷出的空气的压力遍及所述支撑体的整个宽度地向薄片(W)施加,由此,将薄片(W)向摩擦辊(72)按压的工序中,使用设置有在薄片(W)宽度方向上中央部的开口率比两端部的开口率高的压损板(52)的气动压力机装置(50),来进行摩擦处理。 | ||
搜索关键词: | 摩擦 处理 方法 光学薄膜 制造 | ||
【主权项】:
一种摩擦处理方法,具有:使带状挠性支撑体连续行走的工序;将所述支撑体向表面设有摩擦布并进行旋转驱动的摩擦辊进行卷挂的工序;和将从气动压力机装置的喷嘴喷出的空气的压力,遍及所述支撑体的整个宽度地从该支撑体的与所述摩擦辊接触的面的背面侧向所述支撑体施加,由此,将所述支撑体向所述摩擦辊按压的工序,其特征在于,所述气动压力机装置具有在所述支撑体宽度方向上两端部的开口率比中央部的开口率高的压损板。
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