[发明专利]光掩模坯料及光掩模的制造方法

摘要

本发明涉及光掩模坯料及光掩模的制造方法。本发明在确保由铬系材料构成的膜的化学特性等各种特性的同时减轻对该铬系材料膜进行蚀刻时对光致抗蚀剂的负荷。在透明衬底(1)上形成有遮光膜(2)，在该遮光膜(2)上设置有硬掩模膜(3)。硬掩模膜(3)整体由含有锡的铬系材料构成。由含有锡的铬系材料构成的膜能够显著提高氯类干蚀刻时的蚀刻速度。并且，与由将铬的一部分置换成轻元素的铬系材料构成的膜相比，对氟类干蚀刻具有同等以上的蚀刻耐性。因此，对用于加工硬掩模膜的光致抗蚀剂的蚀刻负荷得到减轻，即使在使抗蚀剂膜减薄的情况下也能够进行高精度的图案转印。

主权项

一种光掩模坯料，其特征在于，在能够通过氟类干蚀刻进行蚀刻的无机材料膜上具备由含有锡的铬系材料构成的硬掩模膜，所述能够通过氟类干蚀刻进行蚀刻的无机材料膜为含有钼和硅的膜，所述含有锡的铬系材料中锡的含量相对于铬的含量以原子比计为0.01倍以上且2倍以下，所述硬掩模膜的含氧的氯类干蚀刻的清除时间与氟类干蚀刻的清除时间之比为1:11以上。