[发明专利]旋转磁控溅射靶永磁磁场源结构有效
| 申请号： | 201310188589.8 | 申请日： | 2013-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN103276364A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 邓国勇;蔡鹏 | 申请（专利权）人： | 绵阳市恒信磁性材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 成都中亚专利代理有限公司 51126 | 代理人： | 王岗 |
| 地址： | 621000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种旋转磁控溅射靶永磁磁场源结构，本装置设有磁导率低的耐腐蚀材料制作的底板、底座、密封防护外罩、连接接头以及永磁体和磁场强度调节螺钉，耐腐蚀材料制作的底板上有安装永磁体所需的沿轴向的槽。永磁体通过胶粘剂直接固定在底板上的槽内。永磁体采用五组以上按不同的磁化方向进行排列，利用磁场间相互作用的特性原理使聚集在溅射面方向的磁场强度增强、非溅射面的磁场强度减弱。所述密封防护外罩罩于永磁体上并固定在底板上。所述磁场强度调节螺钉安装于底板和底座上，并可通过调节螺钉进行底板和底座间的距离调整从而达到调节磁场强度大小的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 磁控溅射 永磁 磁场 结构 | ||
【主权项】：
一种旋转磁控溅射靶永磁磁场源结构，设有底板（1）、底座（2）、连接接头（6）、永磁体（3）、磁场调节螺钉（5）及密封防护外罩（4）；所述底板（1）上有安装永磁体（3）所需的沿轴向的槽；所述永磁体（3）通过胶粘剂直接固定在底板（1）上的槽内。
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