[发明专利]防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法无效
| 申请号： | 201310190217.9 | 申请日： | 2013-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN103246157A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 朱棋锋 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 赵根喜;李昕巍 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法，该防尘薄膜框架，用于光学掩膜版的防尘薄膜的安装，所述防尘薄膜框架包括：第一框架，用于与所述防尘薄膜固定连接，所述第一框架具有第一连接部；第二框架，用于与所述光学掩膜版的基板固定连接，所述第二框架具有第二连接部，通过所述第二连接部与所述第一连接部将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。本发明能够使昂贵的防尘薄膜得到重复利用。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 框架 光学 掩膜版 及其 安装 方法 | ||
【主权项】：
一种防尘薄膜框架，用于光学掩膜版的防尘薄膜的安装，所述防尘薄膜框架包括：第一框架，用于与所述防尘薄膜固定连接，所述第一框架具有第一连接部；第二框架，用于与所述光学掩膜版的基板固定连接，所述第二框架具有第二连接部，通过所述第二连接部与所述第一连接部将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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