[发明专利]一种分子级厚度的C3N4纳米片及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201310190678.6 | 申请日： | 2013-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103254200A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 梁诗景;林秋燕;毕进红;刘明华 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C07D487/22 | 分类号： | C07D487/22;B01J31/06;C02F1/30;C02F103/30 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分子级厚度的C3N4纳米片及其制备方法和应用，属于材料制备和光催化的技术领域。本发明在水/乙醇混合体系中通过超声波处理-搅拌相结合的方法制备分子级厚度的C3N4纳米片光催化剂。催化剂的制备分两步进行：第一步为固相热聚合法合成体相的C3N4前驱物；第二步为超声波处理-搅拌相结合剥离制备C3N4纳米片。本发明所制备的C3N4纳米片光催化剂具有高比表面积，光生载流子分离效率高，能够高效降解有机污染物，特别是对印染废水的高效脱色。同时，在光解水制氢和光催化选择性氧化醇类等方面也具有高的活性。催化剂制备工艺简单，成本低，生产过程绿色环保，催化剂稳定性高，符合实际生产需要，有较大的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子 厚度 sub 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种分子级厚度的C3N4纳米片，其特征在于：所述的C3N4纳米片为石墨相C3N4有机聚合物半导体。
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