[发明专利]一种光可降解烯烃聚合物的光敏剂合成方法无效
| 申请号： | 201310192915.2 | 申请日： | 2013-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103265729A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 曹国兰;翟涛;李明;钮彦艳;文涛 | 申请（专利权）人： | 苏州志向纺织科研股份有限公司 |
| 主分类号： | C08L3/02 | 分类号： | C08L3/02;C08L23/06;C08L23/08;C08K13/06;C08K3/30;C08L101/00 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 贺持缓 |
| 地址： | 215228 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光可降解烯烃聚合物的光敏剂合成方法，按重量份计为：元明粉20～35份；淀粉8～30份；低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯6-10份；乙烯-醋酸乙烯共聚物4-6份；偶联剂0.8-1份；光敏剂0.2～1份；加工助剂1～3份；生产方法是先将元明粉和淀粉加入高速混合机搅拌并加热至100℃，排气，其次加入偶联剂继续搅拌20分钟，最后加入低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、光敏剂及加工助剂搅拌5分钟，出料备用；造粒：将备用料通过长径比为30的同向双螺杆挤出机挤出造粒，即得到成品。本发明生产方法简单，成本低，产品母粒可大大加快薄膜的降解速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降解 烯烃 聚合物 光敏剂 合成 方法 | ||
【主权项】：
一种光可降解烯烃聚合物的光敏剂合成方法，其特征在于，原料按重量份计为：元明粉20～35份；淀粉8～30份；低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯6‑10份；乙烯‑醋酸乙烯共聚物4‑6份；偶联剂0.8‑1份；光敏剂0.2～1份；加工助剂1～3份，包括如下步骤：（1）粉体预处理：按照所述组分的重量份数，先将元明粉和淀粉加入高速混合机搅拌并加热至100℃，排气，其次加入偶联剂继续搅拌20分钟，最后加入低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯、乙烯‑醋酸乙烯共聚物、光敏剂及加工助剂搅拌5分钟，出料备用；（2）造粒：将备用料通过长径比为30的同向双螺杆挤出机挤出造粒，即得到成品。
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