[发明专利]主动平移式双面抛光机无效

专利信息
申请号: 201310193300.1 申请日: 2013-05-15
公开(公告)号: CN103273401A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 马平;鄢定尧;何曼泽;黄颖;鲍振军;周佩璠;赵方;赵恒;谢磊;黄军勇 申请(专利权)人: 成都精密光学工程研究中心
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610041 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种主动平移式双面抛光机,属于光学元件加工领域。它包括下盘、工件环、上盘、机座、主动轮和主臂,机座一侧设有可前后移动的平移装置;平移装置上装有蟹钳和挡杆。本发明与传统的双面抛光机相比,集平移抛、环形抛于一体,适用于对加工痕迹有特殊要求的大口径超薄光学元件的抛光。
搜索关键词: 主动 平移 双面 抛光机
【主权项】:
一种主动平移式双面抛光机,包括下盘(1)、工件环(2)、上盘(3)、机座(4)、主动轮(5)和主臂(6),其特征在于,机座(4)一侧设有可前后移动的平移装置(11);平移装置(11)上装有蟹钳(7)和挡杆(8)。
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