[发明专利]基板清洗方法无效
| 申请号： | 201310193584.4 | 申请日： | 2013-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103418558A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 石桥知淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B11/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在一边使基板与辊式清洗构件分别旋转一边使其相互接触以对基板进行清洗的清洗机构中，高效率地对基板进行清洗，清洗性能得到综合性提高，而且使考虑逆向汚染的必要性显著降低。本发明的方法是一边使在基板（W）的直径的大致全长上直线状延伸的辊式清洗构件（16）与基板（W）分别向一个方向旋转，一边在存在清洗液的情况下使辊式清洗构件（16）与基板（W）的表面沿着清洗区域（30）相互接触，并对该表面进行擦洗的基板清洗方法，在这种方法中，对基板（W）表面如下所述提供清洗液，以使伴随基板（W）旋转1圈，对清洗区域（30）上的辊式清洗构件（16）与基板（W）的相对转速相对较高的逆向清洗区域（34）提供清洗液之后，对清洗区域（30）上的辊式清洗构件（16）与基板（W）的相对转速相对较低的顺方向清洗区域（32）提供清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种基板清洗方法，一边使在基板的直径的大致全长上直线状延伸的辊式清洗构件和基板分别向一个方向旋转，一边在存在清洗液的情况下使所述辊式清洗构件与基板表面沿着清洗区域相互接触，对该表面进行擦洗，其特征在于，如以下所述那样对基板表面提供清洗液：伴随基板旋转1圈，对所述清洗区域上的所述辊式清洗构件与基板的相对转速相对较高的逆向清洗区域提供清洗液之后，对所述清洗区域上的所述辊式清洗构件与基板的相对转速相对较低的顺方向清洗区域提供清洗液。
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