[发明专利]在多维位置选择高频激励脉冲中校正相位误差的方法有效

专利信息
申请号: 201310194927.9 申请日: 2013-05-21
公开(公告)号: CN103424721A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: J.法尤弗;T.斯佩克纳 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G01R33/32 分类号: G01R33/32;G01R33/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 不同的实施方式涉及一种在多维位置选择高频激励脉冲的情况下用于校正相位误差的方法。所述方法包括入射多维位置选择HF激励脉冲(1)和采集多个校准梯度回波(21)。该方法还包括计算多维位置选择HF激励脉冲的相位校正和时间校正。
搜索关键词: 多维 位置 选择 高频 激励 脉冲 校正 相位 误差 方法
【主权项】:
一种在磁共振(MR)测量序列(5)的多维位置选择高频(HF)激励脉冲(1)情况下用于校正相位误差(100,101)的方法,所述方法包括:‑在使用用于激励预定区域(250,250a‑250c)中的横向磁化的所属的激励梯度场(12)的条件下入射多维位置选择HF激励脉冲(1),‑在使用所属的正的和负的校准梯度场(22a,22b)的条件下采集所激励的横向磁化的多个校准梯度回波(21),其中所述校准梯度回波(21)分别提供k空间行的校准数据,‑确定所述校准数据的分别一个相位特性曲线(100),‑确定所述校准数据的分别一个相位偏移(101),‑基于所述相位偏移(101)计算多维位置选择HF激励脉冲的相位校正(111),‑基于所述相位特性曲线(100)计算多维位置选择HF激励脉冲的时间校正(110),‑在使用所述相位校正(111)和时间校正(110)的条件下入射另外的多维位置选择HF激励脉冲。
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