[发明专利]一种真空环境中快速传送大型托盘的装置及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201310195069.X 申请日: 2013-05-22
公开(公告)号: CN104183525B 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 胡宏逵;李一成 申请(专利权)人: 理想能源设备(上海)有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种真空环境中快速传送大型托盘的装置及其使用方法,包括面积大于1m2的石墨材料制成的托盘和用于将所述托盘在真空环境中进行传送的机械手臂,所述机械手臂的上表面设置有若干用于承载所述托盘的支撑件,其特征在于在所述支撑件和所述托盘之间设置有接触材料,所述支撑件通过所述接触材料来间接承载所述托盘。本发明通过在设置于机械手臂的支撑件与托盘之间增加接触材料的方法,增大托盘与支撑件之间的摩擦力,避免二者之间的相对运动,从而提高大型托盘在真空环境的传输速度。
搜索关键词: 一种 真空 环境 快速 传送 大型 托盘 装置 及其 使用方法
【主权项】:
一种真空环境中快速传送大型托盘的装置,包括:面积大于1m2的石墨材料制成的托盘和用于将所述托盘在真空环境中进行传送的机械手臂,所述机械手臂的上表面设置有若干用于承载所述托盘的支撑件,其特征在于:在所述支撑件和所述托盘之间设置有接触材料,所述支撑件通过所述接触材料来间接承载所述托盘,所述接触材料为所述托盘底表面处所镀的一层或者多层接触薄膜,所述接触薄膜为非晶硅薄膜、微晶硅薄膜、多晶硅薄膜、SiO2薄膜、SiC薄膜、或Si3N4薄膜中的一种或者多种,所述真空环境为PECVD覆膜腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于理想能源设备(上海)有限公司,未经理想能源设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310195069.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top