[发明专利]苯并二氮杂*化合物及药物组合物有效

专利信息
申请号: 201310203728.X 申请日: 2009-02-20
公开(公告)号: CN103554088A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 大岛邦生;押山孝;平良伸一;校条康宏;山边北斗;松村修二;植田昌孝;古贺康雄;田井国宪;中山直;小野川利幸;辻前贤司 申请(专利权)人: 大塚制药株式会社
主分类号: C07D401/14 分类号: C07D401/14;C07D405/14;C07D401/12;C07D409/14;C07D491/048;C07D495/04;A61K31/5513;A61P9/06
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;王大方
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种新型苯并二氮杂化合物,所述苯并二氮杂化合物能够比其他K+通道更有效且选择性更好地阻断IKur电流或Kv1.5通道或IKAch电流(GIRK1/4通道)。本发明的苯并二氮杂化合物如通式(1)所示:式中,R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢或低级烷基;R2及R3可以连接形成低级亚烷基;A1表示任选地被一个以上羟基取代的低级亚烷基;R5如下所示:式中,R6及R7分别独立地表示氢或有机基团;XA及XB分别独立地表示键、低级亚烷基等。
搜索关键词: 二氮杂 化合物 药物 组合
【主权项】:
1.一种通式(1)表示的苯并二氮杂化合物或其盐,式中,R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢或低级烷基;R2及R3可以连接形成低级亚烷基;A1表示任选地被一个以上羟基取代的低级亚烷基;R5如下所示:式中,R6及R7分别独立地表示氢或有机基团;XA及XB分别独立地表示键、低级亚烷基、低级亚链烯基、-CO-、-SO2-、-SO2-低级亚烷基、-CO-低级亚烷基、-CO-低级亚链烯基、低级亚烷基-N(低级烷基)-CO-低级亚烷基、低级亚烷基-N(低级烷基)-、低级亚烷基-N(低级烷基)-CO-或低级亚烷基-O-。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大塚制药株式会社,未经大塚制药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310203728.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top