[发明专利]半导体基板的高原结构成形方法在审
申请号: | 201310205686.3 | 申请日: | 2013-05-29 |
公开(公告)号: | CN104217996A | 公开(公告)日: | 2014-12-17 |
发明(设计)人: | 汪可震 | 申请(专利权)人: | 力神科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;B28D5/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双;常大军 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体基板的高原结构成形方法,包含:决定多个预定分裂线于半导体基板的表面上的布局,此些预定分裂线用以分裂半导体基板成多个半导体芯片,并依据此些预定分裂线的布局决定多个预定切割位置,接着,决定预定切割深度,使预定切割深度大于半导体基板的半导体接面与半导体基板的表面之间的距离,最后,根据此些预定切割位置及预定切割深度,以刀具切割半导体基板的表面,而形成多个沟槽,及抛光此些沟槽的底部。 | ||
搜索关键词: | 半导体 高原 结构 成形 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体基板的高原结构成形方法,其特征在于,包含步骤:决定多个预定分裂线于一半导体基板的一表面上的布局,该些预定分裂线用以分裂该半导体基板成多个半导体芯片;依据该些预定分裂线的布局决定多个预定切割位置;决定一预定切割深度,使该预定切割深度大于该半导体基板的一半导体接面与该半导体基板的该表面之间的距离;根据该些预定切割位置及该预定切割深度,以一刀具切割该半导体基板的该表面,而形成多个沟槽;及抛光该些沟槽的底部。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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