[发明专利]基于介电泳效应的抛光方法及其专有设备

摘要

基于介电泳效应的抛光方法及其专有设备，所述的抛光方法包括：1）工件置于工件夹具，抛光垫粘贴在绝缘板上；2）抛光液和磨粒进入抛光加工区域；3）上抛光盘和下抛光盘与交流电源联接，调频调压控制器控制交流电源，产生非均匀电场，极化抛光液和磨粒；4）极化后的抛光液和磨粒移动到抛光垫；按照本发明所述的抛光方法构建的专有设备，包括带有上抛光盘、下抛光盘和工件夹具的抛光机本体，上抛光盘和下抛光盘上分别加装电极，电极表面设置绝缘板；上抛光盘上设置抛光液注入口；电极分别与交流电源连接，交流电源的电流与调频调压控制器连接。本发明有益效果是：减缓离心力对抛光液及磨粒的甩出，延长抛光液和磨粒的驻留时间，工件平面度更高。

主权项

一种基于介电泳效应的抛光方法，包括以下步骤：1）工件置于工件夹具,抛光垫粘贴在绝缘板上；2）抛光液和磨粒从抛光液注入口进入位于上抛光盘和下抛光盘之间的抛光加工区域；3）抛光时，装有电极的上抛光盘和下抛光盘与交流电源相联接，调频、调压控制器控制交流电源的电压和频率发生变化，使得上抛光盘上连接的电极与下抛光盘连接的电极之间产生非均匀电场，抛光加工区域中的抛光液液滴和磨粒在电极产生的非均匀电场中发生极化在其表面产生感应电荷；4）抛光加工区域中极化后的抛光液液滴和磨粒受到介电泳力（电场力）的作用移动到上下抛光垫附近，从而减缓离心力对抛光液和磨粒的直接甩出作用，使得进入抛光区域参与工件材料去除的抛光液和磨粒数量增加，对工件表面进行抛光。