[发明专利]Si衬底三结级联太阳电池及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310210307.X 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN103311354B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 赵勇明;董建荣;李奎龙;孙玉润;曾徐路;于淑珍;赵春雨;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/18
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 杨林,马翠平
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及光伏技术领域,尤其是指一种Si衬底三结级联太阳电池,包括按照远离Si衬底10的方向依次在Si衬底上生长的第一过渡层、GeSi底电池、第二过渡层、第一隧道结、GaAs中间电池、第二隧道结、GaInP顶电池、GaAs接触层。本发明采用Si衬底制作的三结级联太阳能电池,实现带隙能量分别为1.89eV/1.42eV/1.0eV,获得高电压、低电流输出,从而有效降低超高倍聚光太阳电池中的电阻损失,实现较高的光电转换效率。
搜索关键词: si 衬底 级联 太阳电池 及其 制作方法
【主权项】:
一种Si衬底三结级联太阳电池,其特征在于,包括从下至上依次设置在Si衬底上的第一过渡层、GeSi底电池、第二过渡层、第一隧道结、GaAs中间电池、第二隧道结、GaInP顶电池、GaAs接触层;所述GeSi底电池、GaAs中间电池、GaInP顶电池的禁带宽度分别为1.89eV、1.42eV、1.0eV;所述第一过渡层的材质是SixGe1‑x,0.8≤x<1;所述第一过渡层中所述x含量按照远离Si衬底的方向呈线性或台阶式降低,所述第一过渡层厚度不大于2μm;所述第二过渡层的材质为GaAsyP1‑y,0.098≤y≤1;所述第二过渡层中所述y含量按照远离Si衬底的方向呈线性或台阶式降低,所述第二过渡层厚度不大于3μm。
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