[发明专利]用于等离子体离子源的改进的成像和加工有效
| 申请号： | 201310211268.5 | 申请日： | 2013-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN103456588A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | T.米勒;S.克罗格;S.张;M.马佐斯;A.格劳佩拉 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谭祐祥 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 申请人已发现，使用等离子体源的离子束系统中由高能离子与中性气体分子之间的电荷交换性相互作用产生的活跃中性粒子到达样本。这些活跃中性粒子产生了离开束冲击点的二次电子。解决这个问题的方法包括在该等离子源下方的多个差分泵送室以减少使这些离子与气体相互作用的机会。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 离子源 改进 成像 加工 | ||
【主权项】：
一种带电粒子束系统，包括：用于容纳等离子体的等离子室；用于将该等离子体偏置到至少10,000 V的电压的源电极；用于从该等离子室引出离子的引出电极；用于将离子聚焦成指向工件的束的聚焦透镜；用于容纳该工件的样本室，该样本室连接到真空泵；以及第一中间真空室，该第一中间真空室在一端连接到该等离子室上并且在另一端通过差分泵送孔径连接到该样本室或连接到一个或多个附加中间真空室，该第一中间真空室连接到真空泵，该第一中间真空室以及该一个或多个附加中间真空室减少了该离子束与中性气体粒子的碰撞，由此减少了冲击该工件的活跃中性粒子的产生。
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