[发明专利]平面晶闸管、用于制造平面晶闸管的芯片及制作方法有效

专利信息
申请号: 201310211580.4 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN103296076A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 周榕榕;王成森;沈怡东;黎重林 申请(专利权)人: 江苏捷捷微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/06;H01L21/332
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 徐茂泰
地址: 226700 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种平面晶闸管,用于制造该平面晶闸管的芯片及其制作方法,晶闸管包含外壳、芯片、框架三部分,其中的芯片包含N型长基区N1,P型短基区P1、P2,隔离墙,扩磷区域N2(或扩磷区域N2、N3、N4),场限环等。尤其所述的隔离墙是由蒸发金属铝扩散而成,对于平面工艺的单向晶闸管芯片、双向晶闸管芯片都适用:一种优选方案中,硅片表面喷砂后蒸发金属铝,经反刻、真空合金,对通隔离扩散后形成隔离墙。另一种优选方案中,硅片经氧化、光刻隔离窗口后,沉积多晶硅薄膜,蒸发宽度与隔离窗口宽度一致的金属铝,进行对通隔离扩散后形成隔离墙。以此方法生产的平面晶闸管性能优越、稳定可靠。
搜索关键词: 平面 晶闸管 用于 制造 芯片 制作方法
【主权项】:
一种用于制造平面晶闸管的芯片,包含:位于芯片中间的N型长基区(N1),设置在N型长基区(N1)下侧的第一P型短基区(P1),设置在N型长基区(N1)上侧的第二P型短基区(P2);设置在第二P型短基区(P2)上的第一扩磷区域(N2),设置在第一扩磷区域(N2)上的阴极;设置在第二P型短基区(P2)上的门极;设置在第一P型短基区(P1)上的阳极;设置在N型长基区(N1)周边的隔离墙,设置在第二P型短基区(P2)与隔离墙之间的场限环,其特征在于:所述隔离墙由蒸发金属铝扩散形成。
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