[发明专利]一种提高叠对测量精度的方法有效
申请号: | 201310213617.7 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103279016B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 夏婷婷;陈力钧;马兰涛;朱琪;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人: | 吴世华,林彦之 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明的提高叠对测量精度的方法,包括在晶圆上设置辅助定位图形;采用测量机台对晶圆进行粗对准;对晶圆进行精对准;寻找辅助定位图形;寻找量测图形进行测量;其中,辅助定位图形的制备方法包括经光刻和刻蚀,在晶圆上形成没有偏移量的第一层图形;通过特定制程固定第一层图形;经光刻和刻蚀,在第一层图形上部形成有固定偏移量的第二层图形。本发明的提高叠对量测的方法,通过采用辅助定位图形,在采用测量机台对准后先寻找到辅助定位图形进行精确定位,然后再寻找量测图形进行测量,可以避免现有叠对测量方法中量测图形的非精准对位问题,提高叠对测量的精确度,从而提高产品性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 测量 精度 方法 | ||
【主权项】:
一种提高叠对测量精度的方法,采用叠对测量机台对量测图形进行量测,其特征在于,包括:步骤S01:在晶圆上设置辅助定位图形;所述辅助定位图形包括第一层图形和相对于所述第一层图形具有一定偏移量的第二层图形,辅助定位图形的间距尺寸小于量测图形的间距尺寸;步骤S02:采用叠对测量机台对所述晶圆进行粗对准;步骤S03:对所述晶圆进行精对准;步骤S04:寻找辅助定位图形;其中,通过叠对测量机台对所述晶圆进行叠对测量强度的检测;辅助定位图形中,则有As=K×Ov,K为斜率,Ov为叠对测量精度;由于辅助定位图形的间距尺寸小于量测图形的间距尺寸,能够提高斜率K值,从而提高辅助定位图形的叠对测量强度,这样便于定位到量测图形;步骤S05:利用所述辅助定位图形作为基准,寻找量测图形进行测量。
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