[发明专利]抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统有效
| 申请号： | 201310217195.0 | 申请日： | 2013-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN104209864B | 公开（公告）日： | 2018-02-09 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B53/12 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 张亚利,骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统，所述修整器包括研磨颗粒；基体，具有研磨面，研磨颗粒固结在研磨面上，研磨面包括相连的边缘研磨面和中央研磨面，边缘研磨面环绕在中央研磨面的周围；中央研磨面为平面，且中央研磨面高于边缘研磨面。在对抛光垫进行修整时，由于研磨面的中央研磨面高于边缘研磨面，使得边缘研磨面上的研磨颗粒高于中央研磨面上的研磨颗粒，故当抛光垫修整器进入抛光垫的压入深度较小时，大部分边缘研磨面上的研磨颗粒不会进行研磨，因而减少了位于边缘位置的研磨颗粒的使用频率，降低了位于边缘位置的研磨颗粒的剥落可能；另外，还降低了位于边缘位置的研磨颗粒与抛光垫边缘发生碰撞的可能。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 修整 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种抛光垫修整器，其特征在于，包括：研磨颗粒；基体，具有研磨面，所述研磨颗粒固结在所述研磨面上，所述研磨面包括：相连的边缘研磨面和中央研磨面，所述边缘研磨面环绕在中央研磨面的周围；所述中央研磨面为平面，且所述中央研磨面高于边缘研磨面，所述中央研磨面的宽度范围为1mm至30mm，所述边缘研磨面包括与中央研磨面连接的内边缘研磨面以及外边缘研磨面，所述内边缘研磨面与外边缘研磨面为凸形圆弧面，所述凸形圆弧面的半径范围为15mm至25mm。
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