[发明专利]通过厚底部绝缘物中的感应净电荷区的性能优良的MOSFET有效
申请号: | 201310221807.3 | 申请日: | 2013-06-06 |
公开(公告)号: | CN103474463A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 王晓彬;安荷.叭剌;伍时谦 | 申请(专利权)人: | 万国半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/10;H01L21/336 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 美国加利福尼亚940*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体功率器件包括一个厚底部绝缘物,形成在半导体外延区的沟槽底部。一个导电栅极电极形成在底部绝缘物上方的沟槽中。栅极电极通过底部绝缘物和栅极绝缘物,与外延区电绝缘。在底部绝缘物和外延半导体区之间的交界面附近,专门将电荷引入到厚底部绝缘物中。 | ||
搜索关键词: | 通过 底部 绝缘 中的 感应 电荷 性能 优良 mosfet | ||
【主权项】:
一种半导体功率器件,包括:一个具有第一导电类型掺杂物的半导体衬底;一个形成在衬底上用第一导电类型掺杂物掺杂的外延半导体区,外延半导体区的掺杂浓度低于衬底的掺杂浓度;一个形成在外延半导体区中的沟槽;一个形成在沟槽附近的外延半导体区中的本体区,其特征在于,所述本体区掺杂第二导电类型的掺杂物,第二导电类型与第一导电类型相反;一个第一导电类型的源极区,其形成在沟槽附近,使本体区位于源极区和外延区之间,其中所述源极区的掺杂浓度高于外延半导体区的掺杂浓度;一个形成在沟槽底部的厚底部绝缘物;一个导电栅极电极,其形成在厚底部绝缘物上方的沟槽中,其中栅极电极通过厚底部绝缘物,与沟槽底部绝缘,并且通过栅极绝缘物,与沟槽侧壁绝缘;以及一个第一导电类型的感应净电荷区域,其在厚底部绝缘物和外延半导体区之间的交界面附近的厚底部绝缘物中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于万国半导体股份有限公司,未经万国半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310221807.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:车辆燃料电池系统
- 下一篇:用于显示设备的数据存取装置
- 同类专利
- 专利分类