[发明专利]一种等离子体刻蚀设备的腔室内衬无效
| 申请号： | 201310231404.7 | 申请日： | 2013-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN103346058A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 张钦亮;平志韩;苏静洪;王谟;祝启蒙 | 申请（专利权）人： | 天通吉成机器技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 赵芳;黄芳 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 等离子体刻蚀设备的腔室内衬，包括圆筒状的本体，本体上设有取送待刻蚀晶片的传送片口，本体的外壁与等离子刻蚀设备的反应腔室适配，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀晶片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔室连接的固定法兰。本发明具有能够均匀反应腔室内刻蚀气体，反应腔室内的纯净度好，反应腔室的使用寿命长的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 设备 内衬 | ||
【主权项】：
等离子体刻蚀设备的腔室内衬，其特征在于：包括圆筒状的本体，本体上设有取送待刻蚀晶片的传送片口，本体的外壁与等离子刻蚀设备的反应腔室适配，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀晶片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔室连接的固定法兰。
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