[发明专利]金属栅极晶体管的形成方法有效

专利信息
申请号: 201310231961.9 申请日: 2013-06-09
公开(公告)号: CN104241129B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 刘焕新 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种金属栅极晶体管的形成方法,包括提供衬底;在衬底正面上形成伪栅极;在衬底正面上形成第一层间介质层,进行平坦化直至露出伪栅极;去除伪栅极以形成沟槽;形成金属栅极叠层,覆盖第一层间介质层并填充沟槽,进行平坦化以在沟槽内形成金属栅极;形成金属栅极之后,对衬底正面进行边缘清洁处理,以使衬底侧壁至预定距离的环形区域上的金属栅极叠层被去除。由于增加了对衬底正面进行边缘清洁处理的步骤,使得衬底侧壁至预定距离的环形区域上的金属栅极叠层有被去除,且形成第二层间介质层之后,第二层间介质层能够牢靠地附着在衬底上,因此消除了第二层间介质层的边缘部分和金属栅极叠层剥离的问题,进而能够提高晶体管的性能。
搜索关键词: 金属 栅极 晶体管 形成 方法
【主权项】:
一种金属栅极晶体管的形成方法,其特征在于,包括:提供衬底;在所述衬底正面上形成伪栅极,且衬底正面边缘凹陷;在所述衬底正面上形成第一层间介质层,对所述第一层间介质层进行平坦化直至露出所述伪栅极;去除所述伪栅极以形成沟槽;形成金属栅极叠层,覆盖所述第一层间介质层并填充所述沟槽,对所述金属栅极叠层进行平坦化以在所述沟槽内形成金属栅极;形成所述金属栅极之后,对所述衬底正面进行边缘清洁处理,以使所述衬底侧壁至预定距离的环形区域上的金属栅极叠层被去除;对所述衬底正面进行边缘清洁处理包括:形成光刻胶层,覆盖所述衬底正面和金属栅极;对所述光刻胶层进行洗边处理,以去除所述光刻胶层的边缘部分、并露出所述环形区域上的金属栅极叠层;以洗边处理后的所述光刻胶层为掩模,去除所述环形区域上的金属栅极叠层;去除所述环形区域上的金属栅极叠层之后,去除洗边处理后的所述光刻胶层。
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