[发明专利]接地屏蔽结构及半导体器件有效

专利信息
申请号: 201310232109.3 申请日: 2013-06-09
公开(公告)号: CN104241242B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 刘凌;程仁豪;王西宁 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种接地屏蔽结构及半导体器件,其中接地屏蔽结构包括衬底;位于所述衬底上的介质层;位于所述衬底或介质层中的多环导电环,每个导电环具有多个开口,所述开口数大于等于3,每个导电环的多个开口将导电环隔开为多个间隔排列的子导电环;接地环,与所有所述子导电环电连接。使用本发明的接地屏蔽结构,减小了接地屏蔽结构的寄生电容和寄生电阻,降低了位于接地屏蔽结构上的电感在接地屏蔽结构中的能量损耗,提高了电感的品质因数Q值。而且,还减少了多环导电环的材料损耗,降低生产成本。
搜索关键词: 接地 屏蔽 结构 半导体器件
【主权项】:
一种接地屏蔽结构,其特征在于,包括:衬底;位于所述衬底上的介质层;位于所述衬底或介质层中的多环导电环,每个导电环具有多个开口,所述开口数大于等于3,每个导电环的多个开口将导电环隔开为多个间隔排列的子导电环;接地环,与所有所述子导电环电连接,所述接地环具有开口;位于所述衬底中的多环第二有源区环,所述导电环位于第二有源区环上且与第二有源区环为介质层所隔开。
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