[发明专利]光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法

摘要

本发明提供光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法，在需要多次描绘的光掩模中准确地进行各区域的对准，能够抑制光刻工序的实施次数。所述制造方法具有以下工序准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在透明基板上层叠曝光光透过率彼此不同且由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的下层膜与上层膜，进而形成第1抗蚀剂膜而得到的；对第1抗蚀剂膜进行第1描绘，形成用于形成上层膜图案和划定下层膜图案的区域的暂定图案的第1抗蚀剂图案；对上层膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；在整面上形成第2抗蚀剂膜；对第2抗蚀剂膜进行第2描绘，形成用于形成下层膜图案的第2抗蚀剂图案；对下层膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；蚀刻去除暂定图案的第3蚀刻工序。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模具备包括遮光部、半透光部以及透光部的转印用图案，所述光掩模的制造方法的特征在于，具有以下工序：准备光掩模坯体的工序，该光掩模坯体是在透明基板上层叠由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的半透光膜和遮光膜，进而形成了第1抗蚀剂膜而得到的；通过对所述第1抗蚀剂膜进行第1描绘而形成第1抗蚀剂图案的工序，该第1抗蚀剂图案用于形成所述遮光部和划定所述半透光部的暂定图案；将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，对所述遮光膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；在包括所形成的所述遮光部和所述暂定图案的整个面上形成第2抗蚀剂膜的工序；通过对所述第2抗蚀剂膜进行第2描绘而形成第2抗蚀剂图案的工序，该第2抗蚀剂图案用于形成所述半透光部；将所述暂定图案和所述第2抗蚀剂图案作为掩模，对所述半透光膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；以及将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述暂定图案的第3蚀刻工序，在形成所述第2抗蚀剂图案的工序中，以使所述暂定图案的一部分从所述第2抗蚀剂图案的边缘露出的方式，进行所述第2描绘，在蚀刻去除所述暂定图案的工序中，针对从所述第2抗蚀剂图案的边缘露出了一部分的状态的所述暂定图案，实施湿蚀刻。