[发明专利]多功能磁控溅射镀膜装置无效
| 申请号： | 201310240597.2 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103290379A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 董志良;杨林生 | 申请（专利权）人： | 合肥力恒液压系统有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 何梅生;胡东升 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多功能磁控溅射镀膜装置，其包括：真空室以及可拆装地连接在真空室顶部的顶盖；固联在顶盖上并悬置于所述真空室内的连接杆，可转动、可升降地套接在连接杆下端的基片架，多个基片载体设置在位于基片架底部的圆盘的底面上，位于所述圆盘的上方并与基片载体相对应的位置上，设置有加热装置；在真空室内腔底部与基片载体相对应的位置上，设置有处于同一圆周上的多个磁控溅射靶，各所述磁控溅射靶的上部的靶头和真空室主轴的夹角在0—45°可调，在磁控溅射靶上位于靶头的下方设置有可翻转的溅射挡板。本装置具有结构紧凑、实用性强和功能多样化的特点，可以满足高校、科研院所利用磁控溅射方法进行薄膜工艺、成分试验研究的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 多功能 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于包括：真空室（1）以及可拆装地连接在所述真空室（1）顶部的顶盖（2）；固联在所述顶盖（2）上并悬置于所述真空室内的连接杆（3），可转动、可升降地套接在所述连接杆（3）下端的基片架（31），多个基片载体（11）设置在位于基片架（3）底部的圆盘（10）的底面上，所述多个基片载体处于同一圆周上，位于所述圆盘（10）的上方并与所述基片载体相对应的位置上，设置有加热装置（12）；在所述真空室内腔底部与所述基片载体（11）相对应的位置上，设置有处于同一圆周上的多个磁控溅射靶（5），各所述磁控溅射靶的上部的靶头（13）和真空室主轴的夹角在0—45°可调，在所述磁控溅射靶上位于所述靶头的下方设置有可翻转的溅射挡板（18）。
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