[发明专利]一种分支纳米结构二氧化钛阵列薄膜的制法及其产品和用途有效
申请号: | 201310240711.1 | 申请日: | 2013-06-17 |
公开(公告)号: | CN103276382A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 吴进明;唐名早;甘澍霆 | 申请(专利权)人: | 南京碧盾新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C22/05 | 分类号: | C23C22/05;C01G23/047;C02F1/30;C02F101/30 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 黄嘉栋 |
地址: | 210061 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种分支纳米结构二氧化钛阵列薄膜的制法,它是将氢氟酸、硝酸与去离子水配得酸洗液;在双氧水溶液中添加硝酸和六次甲基四胺,配得反应液I;另取双氧水溶液添加硝酸和三聚氰胺,配得反应液II;将金属钛基板在酸洗液中清洗后,用去离子水洗净,浸入反应液I中,80℃反应48小时,将钛片取出,溶液经离心分离得到前驱液;另取金属钛基板酸洗液清洗后,用去离子水洗净,浸入反应液II中,60~80℃下反应60~72小时;钛片清洗并干燥后,在450℃处理1小时,冷却;随后将钛片置于前驱液中,反应6~72小时后,清洗,干燥,在金属钛基板上得到具有分支纳米结构的二氧化钛阵列薄膜。本发明方法制得的阵列薄膜有很强的光催化降解水中有机污染物作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 分支 纳米 结构 氧化 阵列 薄膜 制法 及其 产品 用途 | ||
【主权项】:
一种分支纳米结构二氧化钛阵列薄膜的制法,其特征是它包括以下步骤:1)将质量百分比浓度为50~55%的氢氟酸、质量百分比浓度为65~68%的硝酸与去离子水按体积比1∶3∶6混合,得酸洗液;2)在质量百分比浓度为30%的双氧水溶液中添加硝酸至硝酸浓度为0.29摩尔/升的和添加六次甲基四胺至浓度为0.014摩尔/升,得到反应液I;3)在质量百分比浓度为30%的双氧水溶液中添加硝酸至硝酸浓度为0.22~0.29摩尔/升和添加三聚氰胺至三聚氰胺的浓度为0.016~0.024摩尔/升,得到反应液II;4)将金属钛基板在步骤1所述的酸洗液中清洗数秒后,再用去离子水在超声波清洗器中清洗干净,然后浸入反应液I中,80℃下反应48小时,将反应后的钛片取出,剩余溶液经静置、沉淀、过滤并离心分离沉淀后,得到前驱液;5)另取金属钛基板在步骤1所述酸洗液中清洗数秒后,再用去离子水在超声波清洗器中清洗干净,然后浸入步骤3制得的反应液II中,60~80℃下反应60~72小时;6)将步骤5反应后的钛片取出,用去离子水清洗并干燥后置于马弗炉中,450℃下热处理1小时,随炉冷却;7)将步骤6热处理后的钛片置于步骤4制得的前驱液中,80℃下反应6~72小时后取出,用去离子水清洗,干燥,在金属钛基板上得到具有分支纳米结构的二氧化钛阵列薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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