[发明专利]稀土抛光粉及其制备方法有效
| 申请号： | 201310241866.7 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103333663A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 赵月昌;岑仲浙;高玮;郝祥;蒙素玲;杨筱琼 | 申请（专利权）人： | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人： | 罗大忱 |
| 地址： | 201613 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种稀土抛光粉及其制备方法，所述稀土抛光粉，其特征在于，包括如下重量百分比的组分：氧化硅6～10%，稀土氧化物90～94%。本发明的稀土抛光粉，不引入容易引起划伤、环境污染等的氟，保证了抛光的精度；通过对碳酸稀土预处理，得到了特定的晶型，确保了镧以固溶体的形式存在；通过二氧化硅的引入，抑制了抛光过程中氢氧化镧的形成。本发明具有生产效率高，成本低、无污染，抛光粉的耐磨性和抛光效率高等特定，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工。 | ||
| 搜索关键词： | 稀土 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
稀土抛光粉，其特征在于，包括如下重量百分比的组分：氧化硅6～10%，稀土氧化物90～94%。
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