[发明专利]一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统有效
申请号: | 201310243113.X | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN103307986A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 张鸣;朱煜;王磊杰;杨开明;刘召;成荣;刘昊;徐登峰;叶伟楠;张利;赵彦坡;田丽;张金;胡金春;穆海华;尹文生;秦慧超 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G03F7/20 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统,包括双频激光器、光栅干涉仪、测量光栅、接收器、电子信号处理部件;光栅干涉仪包括偏振分光镜、参考光栅、折光元件;该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。双频激光器出射的双频激光入射至光栅干涉仪、测量光栅后输出两路光信号至接收器,后至电子信号处理部件。当光栅干涉仪与测量光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出二个线性位移。该测量系统能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度,且能够同时测量二个线性位移。该测量系统具有对环境不敏感、测量精度高、体积小、质量轻等优点,作为光刻机超精密工件台位置测量系统可提升工件台综合性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 自由度 外差 光栅 干涉仪 位移 测量 系统 | ||
【主权项】:
一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统,其特征在于:包括双频激光器(1)、光栅干涉仪(2)、测量光栅(3)、两个接收器(4)和电子信号处理部件(5);光栅干涉仪(2)包括偏振分光镜(21)、参考光栅(22)、第一折光元件和第二折光元件;双频激光器(1)出射双频正交偏振激光经光纤耦合入射至偏振分光镜(21)后分光,透射光为参考光,反射光为测量光;所述参考光入射至参考光栅(22)后产生两束衍射反射参考光,两束参考光经第一折光元件后偏转形成两束平行参考光,两束平行参考光回射至偏振分光镜(21)后透射;所述测量光入射至测量光栅(3)后产生两束衍射反射测量光,两束测量光经第二折光元件后偏转形成两束平行测量光,两束平行测量光回射至偏振分光镜(21)后反射;其中的一束透射参考光和一束反射测量光重合形成一路测量光信号,另一束透射参考光和另一束反射测量光重合形成另一路测量光信号,两路测量光信号分别经光纤传输至两个接收器(4)进行处理分别形成两路测量电信号,两路测量电信号输入至电子信号处理部件(5)进行处理;双频激光器(1)同时也输出一束参考电信号至电子信号处理部件(5);当测量光栅(3)相对于光栅干涉仪(2)做水平向和垂向两个自由度的线性运动时,电子信号处理部件(5)将输出二自由度线性位移。
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