[发明专利]无缺陷模仁的制造方法

摘要

本发明是有关于一种无缺陷模仁的制造方法，包括以下步骤：(1)提供一模仁;(2)制作一光阻图案于该模仁上;(3)镀制一金属薄膜;(4)形成多个金属圆柱;(5)进行加热及退火;(6)进行干蚀刻;以及(7)移除金属圆球。通过本发明方法形成的无缺陷模仁可用于制造磊晶晶圆的纳米压印制造工艺，微观上可精确控制模仁图案间距的一致及排除模仁图案的错位问题，宏观上可消除磊晶晶圆的格纹的产生，大幅提高磊晶晶圆的产品合格率。无缺陷模仁具有制造简易、成本低廉又可完全复制的特性，可使纳米压印技术得以真正取代现今制造磊晶晶圆制造中的步进曝光机。

主权项

一种纳米压印无缺陷模仁的制造方法，其特征在于包括下列步骤：（1）提供一模仁；（2）制作一光阻图案于该模仁上，于所述模仁的一表面上涂布一光阻层，并透过一屏蔽对该光阻层曝光后再进行显影，藉此形成光阻图案，其中该光阻图案具有多个孔洞；（3）镀制一金属薄膜，对覆盖有所述光阻图案的表面镀制金属薄膜，且该金属薄膜也形成在所述孔洞中；（4）形成多个金属圆柱，拔除覆盖在所述光阻图案上的金属薄膜和光阻图案，用以在所述光阻图案的孔洞相对应的位置形成金属圆柱；（5）进行加热及退火，以加热方式使所述金属圆柱熔化形成为多个液体区块，其中每一液体区块的位置皆对应一金属圆柱的位置，且任意二液体区块均不相接触，接着进行退火使每一液体区块均形成一金属圆球；（6）进行干蚀刻，对覆盖有所述金属圆球的模仁进行干蚀刻，以透过这些金属圆球间的缝隙在模仁中蚀刻出多个凹槽，并以这些凹槽定义出多个图案，二相邻凹槽的图案间距均等于金属圆球的直径；以及（7）移除上述金属圆球，将金属圆球从所述模仁移除，用以形成具有一致图案间距的无缺陷模仁。