[发明专利]估算参与介质接收到的光量的方法及相应的设备在审

专利信息
申请号: 201310251502.7 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN103514624A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: P.高特隆;C.德拉兰德里;J-E.马维 申请(专利权)人: 汤姆逊许可公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50;G06T15/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吕晓章
地址: 法国伊西*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种用于估算非均匀参与介质(10)的点M(34)所接收到的光量的方法,所述光由光环境发射。为了优化所需的计算时间,该方法包括以下步骤:为第一点集合中的每个点(401至40n),估算表示所述所考虑的点和限定介质(10)的第一表面(40)之间沿多个特定光发射方向(421至427)的光衰减的第一值,以及通过将第一光强度减少值投影在球面函数的标准正交基中来估算第一投影系数,估算表示点(34)和第二表面(41)之间沿方向(421至427)的光衰减的第二值,所述第二表面包括点(34)的邻域中的某些点(402、403、414、415),使用第一投影系数和第二光强度减少值估算由所述点所接收的光量。
搜索关键词: 估算 参与 介质 接收 方法 相应 设备
【主权项】:
估算由非均匀参与介质(10)的点M(34)所接收的光量的方法,所述光由包括多个光源(31、32、33)的光环境(3)发射,其特征在于,该方法包括以下步骤:选择(61)所述介质中的某些点以形成所述介质(10)的点的第一集合(401至40n),所述第一集合包括所述点M(34),对所述第一集合中的每个点(401至40n),估算(62)表示所述所考虑的点和第一表面(40)之间沿多个特定光发射方向(421至427)的光衰减的多个第一光强度减少值(5212),所述第一表面(40)限定所述介质(10),估算(63)表示所述点M(34)和至少一个第二表面(41)之间沿多个特定光发射方向(421至427)的光衰减的多个第二光强度减少值(5212),所述至少一个第二表面包括属于第一集合的所述点M(34)的邻域的某些点(402、403、414、415),对所述第一集合中的每个点(401至40n),通过将所述第一光强度减少值投影在球面函数的标准正交基中来估算(64)第一投影系数(5211),所述第一投影系数表示在所述点处光强度的减少,以及使用所述估算的第一投影系数和多个第二光强度减少值,估算(65)所述点M(34)所接收的光量。
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