[发明专利]一种用于托卡马克装置的碳基钨涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310252774.9 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN103352222A 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 练友运;刘翔;宋久鹏 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C14/35;C23C16/14
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 莫丹
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于托卡马克装置的碳基钨涂层的制备方法,其包括如下步骤:(a)对碳材料工件表面预处理;(b)将表面预处理后的碳材料工件放入镀膜设备中,加热后进行等离子体清洗,再利用磁控溅射制备过渡层;(c)将沉积了过渡层的碳材料工件置入化学气相沉积设备中沉积钨涂层。本发明采用碳材料-过渡层-钨涂层结构,过渡层可以解决钨和碳之间在高温下由于扩散而生成脆性碳化钨的缺点;并且快速沉积的厚钨涂层与基体结合良好,可以承受5s脉冲、1-5MW/m2的热负荷。用本发明的碳基钨涂层具有非常优良的抗热冲击性能以及耐热疲劳性能。本发明提出的碳基钨涂层适用于托卡马克装置第一壁和偏滤器位置。
搜索关键词: 一种 用于 马克 装置 碳基钨 涂层 制备 方法
【主权项】:
一种用于托卡马克装置的碳基钨涂层的制备方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:(a)对碳材料工件表面预处理,即通过不同等级的金相砂纸打磨,超声波水清洗、酒精清洗,在100℃烘烤5~10个小时,干燥除气;(b)将步骤(a)表面预处理后的碳材料工件放入镀膜设备中,加热到100~300℃,然后进行等离子体清洗,再利用磁控溅射制备过渡层,所述过渡层为Si层、Cr层或Mo层,过渡层厚度2~10μm;(c)将步骤(b)沉积了过渡层的碳材料工件置入化学气相沉积设备中沉积钨涂层,以六氟化钨和氢气作为反应气体,沉积温度600~700℃,钨涂层厚度0.1~2mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核工业西南物理研究院,未经核工业西南物理研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310252774.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code