[发明专利]进气装置及等离子体加工设备

摘要

本发明提供的进气装置及等离子体加工设备，其包括进气单元和气源，气源经由进气单元向反应腔室的内部提供工艺气体；进气单元包括设置在反应腔室顶部的中央进气嘴以及设置在所述反应腔室的侧壁上的边缘进气嘴组，其中，中央进气嘴分别与气源和反应腔室连通，用以向反应腔室的中心区域喷出工艺气体；边缘进气嘴组包括沿反应腔室的周向排列，且彼此相互独立的至少两个边缘进气嘴，用以向反应腔室的边缘区域喷出工艺气体。本发明提供的进气装置，其可以进一步提高朝向反应腔室边缘区域流动的工艺气体的流量，以使反应腔室边缘区域和中心区域的工艺气体的分布趋于均匀，从而可以提高等离子体加工设备的工艺均匀性。

主权项

一种进气装置，包括进气单元和气源，所述气源经由所述进气单元向反应腔室的内部提供工艺气体；所述进气单元包括设置在所述反应腔室顶部的中央进气嘴，所述中央进气嘴分别与所述气源和反应腔室连通，用以向所述反应腔室的中心区域喷出工艺气体；其特征在于，所述进气单元还包括设置在所述反应腔室的侧壁上的边缘进气嘴组，所述边缘进气嘴组包括沿所述反应腔室的周向排列，且彼此相互独立的至少两个边缘进气嘴，用以向所述反应腔室的边缘区域喷出工艺气体。