[发明专利]用于晶圆级封装的电镀铜溶液及电镀方法有效

专利信息
申请号: 201310257144.0 申请日: 2013-06-25
公开(公告)号: CN103290438A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 王江锋;何志刚;陈建平;李云华;汪文珍;杨明 申请(专利权)人: 深圳市创智成功科技有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D7/12
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 万志香;郑彤
地址: 518103 广东省深圳市宝安区福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于晶圆级封装的电镀铜溶液及电镀方法,所述电镀铜溶液包括:铜盐:120-300g/L;酸:10-200g/L;氯离子:30-80mg/L;含硫化合物:0.001-0.3g/L;聚氧醚类化合物:0.5-10g/L;聚乙二醇:0.05-5g/L;季铵盐:0.001-0.2g/L。所述电镀方法的工艺参数为:镀液温度为10-50℃,电流密度为0.2-20A/dm2。本发明电镀铜溶液可以抑制高电流密度区铜层生长,促进低电流密度区铜层生长,具有较强的均镀能力和分散能力。本发明得到铜柱表面平整,铜柱内应力低,而且适合大电流密度作业,可以提高生产效率。
搜索关键词: 用于 晶圆级 封装 镀铜 溶液 电镀 方法
【主权项】:
一种用于晶圆级封装的电镀铜溶液,其特征在于,包括:铜盐:120‑300g/L;酸:10‑200g/L;氯离子:30‑80mg/L;添加剂,所述添加剂包括以下用量的组分:含硫化合物:0.001‑0.3g/L;聚氧醚类化合物:0.5‑10g/L;聚乙二醇:0.05‑5g/L;季铵盐:0.001‑0.2g/L;所述铜盐为无水硫酸铜,五水硫酸铜,甲基磺酸铜中的一种或几种;所述酸为硫酸,甲基磺酸中的一种或两种;所述聚氧醚类化合物是脂肪胺聚氧乙烯醚,聚氧丙烯甘油醚中的一种或两种。
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