[发明专利]版图数据的处理方法有效
申请号: | 201310258304.3 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN103309150A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 张辰明;张旭升;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种版图数据的处理方法。产生包括正方形图形的初始版图数据;对初始版图数据进行OPC修正;对经过OPC修正的版图数据进行掩模板最小规则检查,以查找出违反掩模板最小规则的正方形图形;对经过OPC修正的版图数据进行修改,使得违反掩模板最小规则的正方形图形中的至少一部分正方形图形旋转特定角度,以形成旋转后正方形图形,其中正方形图形的旋转以正方形图形的中心作为旋转中心。本发明利用版图数据处理解决了图形违反掩模板最小规则的技术问题,在不增加成本或者降低OPC修正准确度的情况下,能够增加掩模板上OPC修正后的孔间距尺寸,使原来违反掩模板最小制造精度的版图变为符合。 | ||
搜索关键词: | 版图 数据 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种版图数据的处理方法,其特征在于包括:第一步骤:产生包括正方形图形的初始版图数据;第二步骤:对初始版图数据进行OPC修正;第三步骤:对经过OPC修正的版图数据进行掩模板最小规则检查,以查找出违反掩模板最小规则的正方形图形;第四步骤:对经过OPC修正的版图数据进行修改,使得违反掩模板最小规则的正方形图形中的至少一部分正方形图形旋转特定角度,以形成旋转后正方形图形,其中正方形图形的旋转以正方形图形的中心作为旋转中心。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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