[发明专利]一种异质结、铁电隧道结及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201310258989.1 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN103346255A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 杨锋;胡广达;武卫兵;杨长红;吴海涛 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250022 山东省*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种异质结,包括衬底和在衬底上外延生长的一层铁电薄膜,所述衬底为n型或p型掺杂硅半导体,所述铁电薄膜为SrTiO3薄膜。本发明还公开了一种铁电隧道结,包括上述异质结,所述异质结的铁电薄膜表面覆有上电极,异质结的铁电薄膜作为铁电隧道结的势垒层,异质结的衬底作为铁电隧道结的下电极。本发明还公开了它们的制备和应用。本发明异质结实现了钛酸锶与非本征硅的直接外延生长,表现出了稳定的极化翻转特性,制成隧道结可电调制势垒的高度而且可电调制势垒的宽度,从而大大提高了隧道电阻。
搜索关键词: 一种 异质结 隧道 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种异质结,其特征是:包括衬底和在衬底上外延生长的一层铁电薄膜,所述衬底为n型或p型掺杂硅半导体,所述铁电薄膜为SrTiO3薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于济南大学,未经济南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310258989.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top